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刻蚀工艺研发|| Etch Process (TD)(J11275)
15000-26000元 应届毕业生 硕士
  • 全勤奖
  • 节日福利
  • 不加班
  • 周末双休
长江存储科技有限责任公司 最近更新 689人关注
职位描述
该职位还未进行加V认证,请仔细了解后再进行投递!
职责描述: 1. 3D NAND ETCH Process develop 2. Process window enlarge 3. New tool evaluation 4. Cycle time reduction and cost down 5. Maintain process and make it stable 任职要求: 1. Master at least and more than 3 years’ experience of ETCH process engineer or process develop engineer, 3D NAND ETCH process related experience preferred 2. At least good at one type of plasma etch process such as poly etch, oxide etch, metal etch, Bev etch, dry strip, etc
联系方式
注:联系我时,请说是在海淀人才网上看到的。
工作地点
地址:武汉洪山区武汉东湖新技术开发区未来三路88号
求职提示:用人单位发布虚假招聘信息,或以任何名义向求职者收取财物(如体检费、置装费、押金、服装费、培训费、身份证、毕业证等),均涉嫌违法,请求职者务必提高警惕。
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